(MCH) Con el objetivo de dar una visión integral a la problemática de la neblina ácida en las planta de electrobtención de cobre (SX/EW)., 3M Chile organizó un workshop en Antofagasta en conjunto con la Asociación Chilena de Seguridad (ACHS).
En él se reunieron higienistas y especialistas de 15 empresas mineras del país, todos relacionados con la industria de la electro depositación y, que se enfrentan diariamente a la tarea de reducir la contaminación dentro de las plantas de EW.
“El principal objetivo es explicar lo perjudicial que es la neblina ácida para la salud. Está comprobado que es cancerígena, por lo que el punto está en prevenir su formación”, explicó Alejandro Forner, ingeniero de 3M.
Durante la reunión expusieron ejecutivos de 3M, de la ACHS y del Instituto de Salud Pública. Ellos explicaron las consecuencias produce la presencia de ácido sulfúrico en el aire, además dar a conocer las medidas de mitigación y abatimiento utilizadas, las metodologías en la medición del ácido en el ambiente y abordar los desafíos futuros que se presentan en su monitoreo. Dentro de los expositores se destacó a Mike Sierakoski de 3M Internacional, creador del suflactante FC 1100, principal inhibidor de la neblina ácida en Chile y que explicó el desarrollo actual de este producto y su futuro en el mercado.
“3M ha desarrollado dos generaciones de productos que abaten la neblina ácida. Hoy queremos entrar en una nueva generación que permita evitar su formación, eliminar el contaminante del ambiente. Es un cambio revolucionario que permitirá entregar una solución integral a este problema. Ese es el foco de nuestras investigaciones”, explicó Forner.
La neblina ácida (ácido sulfúrico ambiental), es generado en el proceso de electrobtención del cobre, donde se produce oxígeno, el cual al momento de llegar a la superficie de la solución, arrastra una fracción de electrolito de cobre, formando neblina ácida. Este contaminante afecta a las personas, el medio ambiente y las estructuras, debido a que es altamente corrosivo.
Fuente/MCH